搪瓷反应釜里面液体再分布装置

液体沿填料层下流时，由于周边液体向下流动的阻力较小，有逐渐向塔壁方向流动的趋势，使液体沿塔截面分布不均匀，产生干锥现象，降低传质效率。为了克服这种现象，须设置液体再分布器。其作用是使流经一段填料层的液体进行再分布，在下一填料层高度内得到均匀喷淋。一般填料层高度与塔径之比大于5～6时，需要安装液体再分布器。通常再分布器的间距为小于6倍塔径，对于直径较大(大于1000mm)的塔为2～3倍塔径。

液体再分布装置的结构型式有分配锥，它的结构简单，适用于直径小于1m的塔。锥壳下端直径为0.7～0.8倍塔径。除分配锥外还有槽形液体再分布器，它是由焊在塔壁上的环形槽构成，槽上带有3～4根管子，沿塔壁流下的液体通过管子流到塔的中央。另外还有带通孔的分配锥，图中的通孔是为了增加气体通过时的截面积，避免中心气体的流速太大。